北京時(shí)間2021年12月13日，超高精密3D打印系統(tǒng)的先行者——摩方精密(BMF，Boston Micro Fabrication)推出了其第二代2μm精度工業(yè)級(jí)3D打印系統(tǒng)microArch S230。摩方精密新一代的超高精度3D打印系統(tǒng)為來(lái)自各個(gè)領(lǐng)域需求超高精度及嚴(yán)格公差的客戶而設(shè)計(jì)。

圖一 microArch S230打印系統(tǒng)

第二代2μm精度3D打印系統(tǒng)microArch S230，在產(chǎn)品設(shè)計(jì)上，兼顧用戶對(duì)打印精度與打印速度的更高要求，在實(shí)現(xiàn)2μm的超高精度的基礎(chǔ)上，提升了打印速度和打印體積。為了滿足客戶在精密樣件加工尺寸、加工效率及加工材料等方面的需求，S230具備更大的打印體積（50mm×50mm×50mm），打印速度提升最高5倍，打印材料可兼容樹(shù)脂和陶瓷材料。

圖二 S230打印典型樣件（內(nèi)含：點(diǎn)陣-50μm桿徑，巴基球-50μm桿徑，埃菲爾鐵塔-高度20mm、最小桿徑30μm，微針陣列-尖端10μm）

microArch S230還配置了激光測(cè)距系統(tǒng)，便于打印平臺(tái)和離型膜的調(diào)平；同時(shí)，配置了滾刀涂層系統(tǒng)后，加快了液面流平時(shí)間，拓寬了支持打印的樹(shù)脂種類，可支持粘度范圍(30~5000cps 25℃)的耐候性工程光敏樹(shù)脂、韌性樹(shù)脂、生物兼容性樹(shù)脂和陶瓷漿料（氧化鋁、鈦酸鎂）等功能性復(fù)合材料，材料的多元化也拓展了新的應(yīng)用領(lǐng)域，如毫米微波應(yīng)用（5G天線，波導(dǎo)，太赫茲，雷達(dá)等電子元器件）、新能源器件、精密零件等，極大滿足了工業(yè)領(lǐng)域制造對(duì)終端產(chǎn)品功能性和耐用性的需求，也為科研領(lǐng)域開(kāi)發(fā)新型功能性復(fù)合材料提供支持。

摩方精密也宣布推出兩款新材料

1. AL（氧化鋁）陶瓷 – 一款生物兼容性和耐化學(xué)腐蝕性的陶瓷材料，目前應(yīng)用最廣泛的工業(yè)陶瓷，其耐受的溫度高達(dá)1700℃，并且在高溫下性能依然良好。廣泛應(yīng)用于精細(xì)濾芯、磨輪、球閥軸承等。

2.HT 200 - 一款耐候性高、耐高溫（耐溫200℃）和高強(qiáng)度的樹(shù)脂，適用于電子連接器和其他電子元器件等。

圖三 精密陶瓷樣件

圖四 精密連接器樣件

microArch S230基于BMF摩方的專利技術(shù)——面投影微立體光刻技術(shù)（PµSL）構(gòu)建，并融入了摩方自主開(kāi)發(fā)的多項(xiàng)專利技術(shù)。摩方PµSL是一種微米級(jí)精度的3D光刻技術(shù)，這一技術(shù)利用液態(tài)樹(shù)脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快速涂層技術(shù)大大降低每層打印的時(shí)間，并通過(guò)打印平臺(tái)三維移動(dòng)逐層累積成型制作出復(fù)雜三維器件。因其復(fù)雜精密零部件快速成型的特點(diǎn)，摩方PμSL技術(shù)成為眾多領(lǐng)域原型器件開(kāi)發(fā)驗(yàn)證和終端零部件小批量制備的最佳選擇。這些領(lǐng)域包括：電子通訊、微電子機(jī)械系統(tǒng)、醫(yī)療器械、生物科技和制藥、仿生材料、微流控、力學(xué)等眾多領(lǐng)域。

圖五 microArch S230打印系統(tǒng)

“作為摩方microArch S130的老客戶，我們對(duì)其性能感到非常滿意，它可以在保證了打印精度和公差的基礎(chǔ)上，幫助到我們微納陶瓷打印的研究工作。同時(shí)，我們很榮幸成為了第二代（2μm打印系統(tǒng)）microArch S230的首位客戶，體驗(yàn)到了該系統(tǒng)新增的強(qiáng)大功能，可以打印更大體積的樣件，也加快了我們的打印時(shí)間。我們期待與摩方的長(zhǎng)期合作，以支持我們的微納3D打印需求?！?休斯研究實(shí)驗(yàn)室（HRL Laboratories）建筑材料與結(jié)構(gòu)部經(jīng)理Toby Schaedler說(shuō)道。

“摩方精密作為全球微尺度3D打印領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)者之一，公司成立6年來(lái)，一直致力于微尺度3D打印領(lǐng)域的技術(shù)創(chuàng)新和應(yīng)用轉(zhuǎn)化，在2018年推出第一代的產(chǎn)品S140和S130，受到全球市場(chǎng)眾多用戶的肯定，近幾年的用戶數(shù)量增長(zhǎng)率保持在90%以上?！?strong>摩方精密亞太區(qū)總經(jīng)理周建林說(shuō)道，“摩方精密與數(shù)十家世界500強(qiáng)公司達(dá)成合作，在通訊、消費(fèi)電子、連接器、醫(yī)療等領(lǐng)域做了大量應(yīng)用，同時(shí)摩方也支持科研用戶產(chǎn)出大量的優(yōu)秀成果，一些成果已公開(kāi)發(fā)表在Science、Science  Advances、Nature communications等頂尖期刊上。為滿足全球用戶對(duì)微尺度打印精度、打印速度、打印材料的更高要求，摩方精密推出了2μm精度的新產(chǎn)品microArch S230，這款產(chǎn)品配置了摩方自主開(kāi)發(fā)的滾刀涂層、激光測(cè)距、液面平衡等新技術(shù)，可極大提高微尺度打印的速度，解決高粘度工程樹(shù)脂、復(fù)合樹(shù)脂、陶瓷漿料微尺度3D打印的難題?！?/div>
有關(guān)microArch S230的更多信息，請(qǐng)?jiān)L問(wèn)www.bmftec.cn/S230網(wǎng)站。

北京時(shí)間2021年12月13日，超高精密3D打印系統(tǒng)的先行者——摩方精密(BMF，Boston Micro Fabrication)推出了其第二代2μm精度工業(yè)級(jí)3D打印系統(tǒng)microArch S230。摩方精密新一代的超高精度3D打印系統(tǒng)為來(lái)自各個(gè)領(lǐng)域需求超高精度及嚴(yán)格公差的客戶而設(shè)計(jì)。

圖一 microArch S230打印系統(tǒng)

第二代2μm精度3D打印系統(tǒng)microArch S230，在產(chǎn)品設(shè)計(jì)上，兼顧用戶對(duì)打印精度與打印速度的更高要求，在實(shí)現(xiàn)2μm的超高精度的基礎(chǔ)上，提升了打印速度和打印體積。為了滿足客戶在精密樣件加工尺寸、加工效率及加工材料等方面的需求，S230具備更大的打印體積（50mm×50mm×50mm），打印速度提升最高5倍，打印材料可兼容樹(shù)脂和陶瓷材料。

圖二 S230打印典型樣件（內(nèi)含：點(diǎn)陣-50μm桿徑，巴基球-50μm桿徑，埃菲爾鐵塔-高度20mm、最小桿徑30μm，微針陣列-尖端10μm）

microArch S230還配置了激光測(cè)距系統(tǒng)，便于打印平臺(tái)和離型膜的調(diào)平；同時(shí)，配置了滾刀涂層系統(tǒng)后，加快了液面流平時(shí)間，拓寬了支持打印的樹(shù)脂種類，可支持粘度范圍(30~5000cps 25℃)的耐候性工程光敏樹(shù)脂、韌性樹(shù)脂、生物兼容性樹(shù)脂和陶瓷漿料（氧化鋁、鈦酸鎂）等功能性復(fù)合材料，材料的多元化也拓展了新的應(yīng)用領(lǐng)域，如毫米微波應(yīng)用（5G天線，波導(dǎo)，太赫茲，雷達(dá)等電子元器件）、新能源器件、精密零件等，極大滿足了工業(yè)領(lǐng)域制造對(duì)終端產(chǎn)品功能性和耐用性的需求，也為科研領(lǐng)域開(kāi)發(fā)新型功能性復(fù)合材料提供支持。

摩方精密也宣布推出兩款新材料

1. AL（氧化鋁）陶瓷 – 一款生物兼容性和耐化學(xué)腐蝕性的陶瓷材料，目前應(yīng)用最廣泛的工業(yè)陶瓷，其耐受的溫度高達(dá)1700℃，并且在高溫下性能依然良好。廣泛應(yīng)用于精細(xì)濾芯、磨輪、球閥軸承等。

2.HT 200 - 一款耐候性高、耐高溫（耐溫200℃）和高強(qiáng)度的樹(shù)脂，適用于電子連接器和其他電子元器件等。

圖三 精密陶瓷樣件

圖四 精密連接器樣件

microArch S230基于BMF摩方的專利技術(shù)——面投影微立體光刻技術(shù)（PµSL）構(gòu)建，并融入了摩方自主開(kāi)發(fā)的多項(xiàng)專利技術(shù)。摩方PµSL是一種微米級(jí)精度的3D光刻技術(shù)，這一技術(shù)利用液態(tài)樹(shù)脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快速涂層技術(shù)大大降低每層打印的時(shí)間，并通過(guò)打印平臺(tái)三維移動(dòng)逐層累積成型制作出復(fù)雜三維器件。因其復(fù)雜精密零部件快速成型的特點(diǎn)，摩方PμSL技術(shù)成為眾多領(lǐng)域原型器件開(kāi)發(fā)驗(yàn)證和終端零部件小批量制備的最佳選擇。這些領(lǐng)域包括：電子通訊、微電子機(jī)械系統(tǒng)、醫(yī)療器械、生物科技和制藥、仿生材料、微流控、力學(xué)等眾多領(lǐng)域。

圖五 microArch S230打印系統(tǒng)

“作為摩方microArch S130的老客戶，我們對(duì)其性能感到非常滿意，它可以在保證了打印精度和公差的基礎(chǔ)上，幫助到我們微納陶瓷打印的研究工作。同時(shí)，我們很榮幸成為了第二代（2μm打印系統(tǒng)）microArch S230的首位客戶，體驗(yàn)到了該系統(tǒng)新增的強(qiáng)大功能，可以打印更大體積的樣件，也加快了我們的打印時(shí)間。我們期待與摩方的長(zhǎng)期合作，以支持我們的微納3D打印需求?！?休斯研究實(shí)驗(yàn)室（HRL Laboratories）建筑材料與結(jié)構(gòu)部經(jīng)理Toby Schaedler說(shuō)道。

“摩方精密作為全球微尺度3D打印領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)者之一，公司成立6年來(lái)，一直致力于微尺度3D打印領(lǐng)域的技術(shù)創(chuàng)新和應(yīng)用轉(zhuǎn)化，在2018年推出第一代的產(chǎn)品S140和S130，受到全球市場(chǎng)眾多用戶的肯定，近幾年的用戶數(shù)量增長(zhǎng)率保持在90%以上?！?strong>摩方精密亞太區(qū)總經(jīng)理周建林說(shuō)道，“摩方精密與數(shù)十家世界500強(qiáng)公司達(dá)成合作，在通訊、消費(fèi)電子、連接器、醫(yī)療等領(lǐng)域做了大量應(yīng)用，同時(shí)摩方也支持科研用戶產(chǎn)出大量的優(yōu)秀成果，一些成果已公開(kāi)發(fā)表在Science、Science  Advances、Nature communications等頂尖期刊上。為滿足全球用戶對(duì)微尺度打印精度、打印速度、打印材料的更高要求，摩方精密推出了2μm精度的新產(chǎn)品microArch S230，這款產(chǎn)品配置了摩方自主開(kāi)發(fā)的滾刀涂層、激光測(cè)距、液面平衡等新技術(shù)，可極大提高微尺度打印的速度，解決高粘度工程樹(shù)脂、復(fù)合樹(shù)脂、陶瓷漿料微尺度3D打印的難題?！?/div>
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